高穿透磁灸場裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種高穿透磁灸場裝置，包括：多個磁石，基材和襯底，其中，所述多個磁石根據(jù)預設的距離固定設置在所述基材上，所述基材設置在所述襯底上，本實用新型提供的高穿透磁灸場裝置，能夠實現(xiàn)多個磁石之間的距離較少且不相吸在一起，從而能夠形成較強的磁場強度，增強了磁療效果。
【專利說明】高穿透磁灸場裝置

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及磁療領域，特別涉及一種高穿透磁灸場裝置。

【背景技術】
[0002]近年來，磁療因其適應癥狀廣泛，保健效果顯著，無創(chuàng)傷、無疼痛、副作用小、安全、可靠，易學易懂、經濟實惠等優(yōu)點得到了迅速發(fā)展，成為一種廣泛推廣的新型治療方法。磁療即所謂的磁場治療，是一種利用磁力或磁場治療疾病的方法通稱，一般是欲治療的部位置于可變動的磁場中，根據(jù)磁極產生的磁性對人體組織產生影響，以達活血、化淤、消腫、止痛、消炎、鎮(zhèn)痛等治療目的。
[0003]現(xiàn)有的一些磁療產品中往往是將磁石設置在軟織物上，而且通常是以較大的間隔距離設置磁石，產生的磁場強度較低，一般為1500高斯以下，當作用在人或者動物身上，穿透性弱，只能作用于皮膚表面，磁療效果較差，為了使磁場強度最大，則需要將磁石之間的距離減少。但是由此帶來的困擾是，當磁石之間的距離逐漸減少時，磁石之間會相互吸附在一起，導致磁場強度降低，磁療效果反而變差；另一方面，磁石以一定的距離固定在織物上，其提供的磁場強度亦固定，對于同一磁療產品，例如衣帽、鞋襪、被褥等，對于使用者的不同需求，無法選擇和調整實用新型內容
[0004]本實用新型提供一種高穿透磁灸場裝置，解決了現(xiàn)有技術中磁療產品因磁場較弱而導致磁療效果較差的技術問題。
[0005]本實用新型提供一種高穿透磁灸場裝置，包括:
[0006]多個磁石，基材和襯底，其中，所述多個磁石根據(jù)預設的距離固定設置在所述基材上，所述基材設置在所述襯底上。
[0007]本實用新型的實施方案中，所述預設距離為10_30mm。
[0008]本實用新型的實施方案中，所述多個磁石按照單極方向或雙極方向固定設置在所述基材上。
[0009]本實用新型的實施方案中，所述多個磁石通過所述基材上對應設置的多個凹槽固定設置在所述基材上，其中，每個凹槽對應設置一個磁石。
[0010]本實用新型的實施方案中，所述基材通過縫制或粘合方式設置在所述襯底上。
[0011]本實用新型的實施方案中，所述基材為不導磁材料且所述基材為柔軟性材料。
[0012]本實用新型的實施方案中，所述基材為柔性基板。
[0013]本實用新型的實施方案中，所述基材為軟管，所述多個磁石根據(jù)預設的距離固定設置在所述軟管內。
[0014]本實用新型的實施方案中，所述磁石的磁場強度大于2000高斯。
[0015]本實用新型提供高穿透磁灸場裝置，通過將多個磁石根據(jù)預設的距離固定設置在基材上，然后將基材設置在襯底上，能夠實現(xiàn)多個磁石之間的距離較少且不相吸在一起，從而形成較強的磁場強度，增強了磁療效果，而且，多個磁石可以按照不同距離固定設置在基材上，從而能夠制成一系列磁場強度不同的高穿透磁灸場裝置，且基材在襯底上的位置可調整，極大地滿足了用戶的不用需求。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1是本實用新型高穿透磁灸場裝置的結構示意圖。

【具體實施方式】
[0017]圖1是本實用新型高穿透磁灸場裝置的結構示意圖，如圖1所示，高穿透磁灸場裝置包括:
[0018]多個磁石2，基材I以及襯底(未示出)其中，多個磁石2根據(jù)預設的距離固定設置在基材I上，其中，預設的距離具體可以選擇不同的距離值，只要能夠使磁石之間產生的磁場強度較大便可，基材I設置在襯底上，本實施例中，襯底可以為帽子、面具、耳套、眼罩、口罩、圍巾、衣服、褲子、護膝、鞋子、鞋墊、襪子、坐墊、椅子、沙發(fā)、床墊、靠枕等中的任一種，舉例來說，當襯底選取為帽子時，則多個磁石2固定設置的基材I上，然后將基材I設置在帽子的任一位置，此時，該帽子就可以作為一種高穿透磁灸場裝置。本實施例中，基材I設置在襯底上，可以通過縫制方式將基材I縫制在襯底上，還可以通過粘合方式將基材I粘合在襯底上，具體可以根據(jù)實際應用選取合適的固定方式，本實施例中不加以限制的，本實施例中，由于多個磁石2為導磁材料，為了避免基材I對多個磁石2的干擾，基材I選用不導磁材料，例如可以為柔軟性的基板(柔性基板)，還可以為軟管等。
[0019]本實施例提供的高穿透磁灸場裝置，通過將多個磁石根據(jù)預設的距離固定設置在基材上，然后將基材設置在襯底上，能夠實現(xiàn)多個磁石之間的距離較少且不相吸在一起，從而形成較強的磁場強度，增強了磁療效果，而且多個磁石可以按照不同距離固定設置在基材上，從而能夠制成一系列磁場強度不同的高穿透磁灸場裝置，且基材在襯底上的位置可調整，極大地滿足了用戶的不用需求。
[0020]進一步的，在上述實施例的基礎上，本實施例中，多個磁石2之間的預設距離為10-30mm,本實施例中，通過將多個磁石2按照10_30mm的預設距離固定設置在基材I上，保證了多個磁石2之間形成較大的磁場強度，當作用在人體上或動物體上時，穿透力更強，磁力線能夠穿透皮膚內，增強磁場對人體或動物體的作用，改善人體或動物體的微循環(huán)，而且，多個磁石2根據(jù)不同的預設距離設置在基材1，這樣能夠獲得一系列磁場強度不同的高穿透磁灸場裝置，而且用戶還可以根據(jù)自身需求選擇將設置了多個磁石2的基材I設置在不同的襯底上，且可以調整基材在襯底上的任一位置，舉例來說，將設置了多個磁石2的基材I設置在被子上時，可以根據(jù)用戶需求，可以選擇不同磁場強度的基材設置在被子上，且可以隨時調整基材I在被子上的位置。
[0021]進一步的，在上述實施例的基礎上，本實施例中，多個磁石2固定設置在基材I上時，可以按照單極方向排列，還可以按照雙極方排列，其中，單級方向排列是指多個磁石2朝向基材I 一面都為N極或S級,雙極方排列是指多個磁石2朝向基材I的一面既有N極還有S級。
[0022]進一步的，在上述實施例的基礎上，本實施例中，多個磁石2可以通過基材I上設置的多個凹槽固定設置在基材I上，其中，每個凹槽對應設置一個磁石，還可以通過在基材I上設置多個固定件，例如卡扣，通過多個卡扣將多個磁石2固定設置在基材I上，還可以通過粘合方式，將多個磁石2固定粘合在基材I時，本實施例中，通過設置多個凹槽或多個卡扣，一方面能夠更好地控制多個磁石之間的距離，另一方面便于快速地將多個磁石固定設置的基材上，同時，能夠方便、快速地找到磁石設置的對應位置。
[0023]進一步的，在上述實施例的基礎上，本實施例中，基材I為不導磁材料且基材I為柔軟性材料，其中，基材I可以為柔性基板，還可以為軟管，當基材I為軟管時，多個磁石2根據(jù)預設的距離固定設置在軟管內，然后將軟管設置在襯底上，具體可以將軟管設置在眼罩、坐墊、靠枕或護膝中，實際應用中，根據(jù)用戶的不同需求選擇將設置了多個磁石2的基材I設置在不同的襯底上，從而制成一系列的磁療產品。
[0024]進一步的，在上述實施例的基礎上，本實施例中，磁石2的磁場強度大于2000高斯，本實施例中，當多個磁石2按照預設距離固定設置在基材I后，由于多個磁石2之間的距離較近，因此多個磁石2產生的磁場強度會大于2000高斯。
[0025]本實施例提供的高穿透磁灸場裝置，通過將多個磁石根據(jù)預設的距離固定設置在基材上，然后將基材設置在襯底上，能夠實現(xiàn)多個磁石之間的距離較少且不相吸在一起，從而形成較強的磁場強度，增強了磁療效果，而且多個磁石可以按照不同距離固定設置在基材上，從而能夠制成一系列磁場強度不同的高穿透磁灸場裝置，且基材在襯底上的位置可調整，極大地滿足了用戶的不用需求。
[0026]最后應說明的是:以上各實施例僅用以說明本實用新型的技術方案，而非對其限制；盡管參照前述各實施例對本實用新型進行了詳細的說明，本領域的普通技術人員應當理解:其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分或者全部技術特征進行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應技術方案的本質脫離本實用新型各實施例技術方案的范圍。
【權利要求】
1.一種高穿透磁灸場裝置，其特征在于，包括: 多個磁石，基材和襯底，其中，所述多個磁石根據(jù)預設的距離固定設置在所述基材上，所述基材設置在所述襯底上。
2.根據(jù)權利要求1所述的高穿透磁灸場裝置，其特征在于，所述預設距離為10-30mm。
3.根據(jù)權利要求1所述的高穿透磁灸場裝置，其特征在于，所述多個磁石按照單極方向或雙極方向固定設置在所述基材上。
4.根據(jù)權利要求1-3任一項所述的高穿透磁灸場裝置，其特征在于，所述多個磁石通過所述基材上設置的多個凹槽固定設置在所述基材上，其中，每個凹槽對應設置一個磁石。
5.根據(jù)權利要求1-3任一項所述的高穿透磁灸場裝置，其特征在于，所述基材通過縫制或粘合方式設置在所述襯底上。
6.根據(jù)權利要求1所述的高穿透磁灸場裝置，其特征在于，所述基材為不導磁材料且所述基材為柔軟性材料。
7.根據(jù)權利要求6所述的高穿透磁灸場裝置，其特征在于，所述基材為柔性基板。
8.根據(jù)權利要求6所述的高穿透磁灸場裝置，其特征在于，所述基材為軟管，所述多個磁石根據(jù)預設的距離固定設置在所述軟管內。
9.根據(jù)權利要求1-3任一所述的高穿透磁灸場裝置，其特征在于，所述磁石的磁場強度大于2000高斯。
【文檔編號】A61N2/08GK204170294SQ201420606361
【公開日】2015年2月25日 申請日期:2014年10月20日 優(yōu)先權日:2014年10月20日
【發(fā)明者】樓中平, 葛俊 申請人:杭州慈孝堂科技有限公司