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拉伸吹塑成型或吹塑成型和灌裝無菌容器用的方法和裝置的制作方法
專利名稱:拉伸吹塑成型或吹塑成型和灌裝無菌容器用的方法和裝置的制作方法
技術領域:
本發(fā)明涉及一種具有如下特征的用于在容器處理裝置中吹塑成型或拉伸吹塑成 型以及灌裝預制體的無菌容器的方法所述容器特別是塑料瓶,在該容器處理裝置的 吹塑模塊中包括吹塑模,其中,所述預制體經由輸送裝置從加熱裝置被轉移至所述吹塑 模,并且所述預制體在所述吹塑模中被成型為所述容器,所述容器被從所述吹塑模輸送 至灌裝機并且被灌裝,其中對所述預制體和所述容器均進行滅菌處理,并且涉及具有如 下特征的用于吹塑成型或拉伸吹塑成型以及灌裝預制體的無菌容器的容器處理裝置在 該容器處理裝置的吹塑模塊中包括吹塑模,所述容器處理裝置具有位于所述吹塑模塊的 上游的用于所述預制體的加熱裝置,其中,所述預制體能夠被輸送裝置轉移至所述吹塑 模,并且所述預制體在所述吹塑模中被成型為容器,然后所述容器被輸送至灌裝機并且 被灌裝,所述容器處理裝置還具有用于所述預制體和所述容器的滅菌處理模塊。
背景技術:
在從DE 10 2006 053 193 A中已知的方法中,由對預制體吹塑成型或拉伸吹塑 成型而形成的容器在吹塑模塊和灌裝機之間的輸送路徑上被滅菌。在該處理中,首先對 內表面進行滅菌處理,然后在外部通道中對外表面進行滅菌處理,最后利用無菌空氣進 行清掃。用于滅菌處理的設備和控制的復雜性高。例如,需要具有升降裝置的處理星 輪(treatment star),該升降裝置包括復雜的控制系統(tǒng),由于吹塑成型容器包括薄壁和大表 面,所以必須采用相對低的壓力和溫度。適于執(zhí)行該方法的裝置很大并且包括非常長的 輸送路徑,特別是對于容器來說。在從EP 1 896 245 A中已知的方法中,在通向吹塑模塊的輸送路徑上已經對預 制體進行了兩次滅菌處理,這意味著在加熱裝置的上游進行第一次滅菌處理,在加熱裝 置的下游進行另一次滅菌處理。然而,特別是在吹塑模塊中,許多不能通過合理的措施 而處于無菌狀態(tài)的部件與預制體和容器發(fā)生接觸,使得容器在灌裝過程中可能再次被污 染。然而,該已知方法考慮了如下事實由于壁厚相對厚的預制體具有較小的表面并且 處于有利于滅菌處理的溫度,因此,從所采用的壓力和溫度的角度考慮,能夠相對強烈 和有效地進行預制體的滅菌處理,并且在吹塑成型或拉伸吹塑成型過程中通過改變氣體 體積良好地去除了可能的殘留物。最后,對于在滅菌處理中所使用的介質,由于預制體 的耐受性(raggedness),可以選擇較高的溫度的介質來增強滅菌處理的效果。在從WO 2009/052800A中已知的方法中,利用發(fā)生器所產生的能量束在通向 加熱裝置的輸送路徑上對預制體進行第一次滅菌處理,并且再次利用發(fā)生器的能量束沿 著容器的從吹塑模塊到吹塑模塊的排出部的輸送路徑對容器進行另一次滅菌處理。預制 體可能在加熱裝置中被再次污染,容器可能在吹塑模中和通向灌裝機的輸送路徑上被污
染 ο在從EP 0 996 530 A中已知的方法中,預制體和容器均經受滅菌處理。在加熱 裝置的上游和加熱裝置中、或者在加熱裝置與吹塑模塊之間進行預制體的滅菌處理。在吹塑成型結束時進行容器的滅菌處理,因此容器可能隨后被再次污染。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的是提供上面提及的類型的方法和適于進行該方法的裝置,其允許 僅利用關于設備和控制系統(tǒng)的稍許努力和灌裝所需的適當空間就能可靠地生產無菌容器。利用如下特征來實現上述目的的方法用于在容器處理裝置中吹塑成型或拉伸 吹塑成型以及灌裝預制體的無菌容器的方法,所述容器特別是塑料瓶,在該容器處理裝 置的吹塑模塊中包括吹塑模,其中,所述預制體經由輸送裝置從加熱裝置被轉移至所述 吹塑模,并且所述預制體在所述吹塑模中被成型為所述容器,所述容器被從所述吹塑模 輸送至灌裝機并且被灌裝,其中對所述預制體和所述容器均進行滅菌處理,所述方法的 特征在于,在所述加熱裝置和所述吹塑模塊之間對所述預制體進行主滅菌處理,在通向 所述灌裝機的輸送路徑中僅對所述容器進行次滅菌處理,利用如下特征來實現上述目的 的裝置一種用于吹塑成型或拉伸吹塑成型以及灌裝預制體的無菌容器的容器處理裝 置,在該容器處理裝置的吹塑模塊中包括吹塑模,所述容器處理裝置具有位于所述吹塑 模塊的上游的用于所述預制體的加熱裝置,其中,所述預制體能夠被輸送裝置轉移至所 述吹塑模,并且所述預制體在所述吹塑模中被成型為容器,然后所述容器被輸送至灌裝 機并且被灌裝,所述容器處理裝置還具有用于所述預制體和所述容器的滅菌處理模塊。通過對高溫表面相對小且結實的待處理預制體進行主滅菌處理,能夠更加強烈 和有效地進行滅菌操作,使得從吹塑模塊出來的容器達到了很高的無菌標準,從而使次 滅菌處理可以相對簡單,為了使容器在次滅菌處理中被真正地滅菌,最多僅必須去除灰 塵和來自主滅菌處理的介質的可能的殘留物。然而,由于在吹塑模塊中發(fā)生氣體體積 的多次變換,從而去除了可能存在的殘留成分,所以主滅菌處理產生殘留物的風險非常 小。由于預制體的結實,例如,如果氣態(tài)或液體介質被用于滅菌處理,則可以在操作中 采用高溫和高壓,所以主滅菌處理僅需要較短的輸送部。對于作為預防而進行的容器的 次滅菌處理,也僅需要很少的時間和設備,例如,不需要具有升降控制器的吹出星輪或 加工星輪,如果容器專門經受滅菌處理,則該具有升降控制器的吹出星輪或加工星輪是 必不可少的。因此,能夠減少對于實施該方法的設備以及控制系統(tǒng)的努力。由于簡化了設備且縮短了輸送部,所以裝置需要更少的空間來進行滅菌處理。 具有升降控制器的吹出星輪或加工星輪的省略減少了對于設備和控制系統(tǒng)的努力。主滅 菌處理已經進行得非常徹底,使得到達吹塑模塊的預制體處于實際上無菌狀態(tài),由于吹 塑成型或拉伸吹塑成型過程中的高溫和氣體交換使得先前使用的介質的可能的殘留物消 失,因此次滅菌模塊可以被設計得相對緊湊,因此容器在此處的停留時間短。根據本方法,利用預制體的耐受性和高溫能夠比較強烈地進行主滅菌處理,并 且能夠獲得已經很大程度上無菌的預制體,因此在次滅菌處理中,處理可以不強烈并且 也相對短。這里,可以采用并任意組合不同的滅菌處理用技術。例如,在主滅菌處理 中,在操作中采用氣態(tài)介質優(yōu)選采用熱處理過的氣態(tài)或蒸汽態(tài)的過氧化氫、和相對高的 溫度和壓力,而次滅菌處理也可以采用該氣態(tài)介質,但可以在較低的溫度和較低的壓力 下進行,次滅菌處理也可以采用液體介質,優(yōu)選基于過乙酸的液體介質,主要用于可靠地去除可能在吹塑模塊中引入的污染物和灰塵。作為另一可選方案,由于有效性提高,可采用利用電子束的滅菌處理。該滅菌 處理可用作主滅菌處理和次滅菌處理,或者電子束僅用于主滅菌處理,而在次滅菌處理 中采用氣態(tài)介質和/或液體介質,這是因為在主滅菌處理中已經獲得了很大程度上無菌 的預制體。至少主滅菌處理應該在清潔室環(huán)境中進行,以排除從外部引入的污染物和細菌 或者使從外部引入的污染物和細菌最小化。在清潔室環(huán)境中,可以建立比清潔室環(huán)境的 上游和下游的壓力高的清潔室壓力,使得在上游或下游循環(huán)的污染物和/或細菌不能進 入到清潔室環(huán)境中。在適當的方法變型中,至少主滅菌處理是在處理星輪處進行的,該處理星輪配 置于處理室中,該處理室包圍處理星輪并向下通向轉移區(qū)域,處理室優(yōu)選位于清潔室環(huán) 境中。這里,無菌氣流能夠被持續(xù)地引入處理室,并且優(yōu)選地經由包圍轉移區(qū)域的廢氣 箱被吹出或抽出,從而在處理室中沿上游方向和下游方向產生一種鎖定效應。無菌氣流 也可以是氣態(tài)的過氧化氫混合物。為了允許以相對小的努力來保持清潔室環(huán)境,以避開清潔室環(huán)境的方式將廢氣 從處理室排出或抽出至外部是合適的。因為在主滅菌處理和/或次滅菌處理中,隨著廢 氣釋放可能污染環(huán)境的污染物或細菌。因為不能確保在所有情況下例如所有的細菌能夠 被立即殺死。在裝置的合適的實施方式中,主滅菌模塊被插入到預制體的位于從加熱裝置供 給預制體的輸送裝置與裝載吹塑模塊的輸送裝置之間的輸送路徑中,而次滅菌模塊被插 入到容器的位于從吹塑模塊移出容器的輸送裝置與將容器移入灌裝機的輸送裝置之間的 輸送路徑中。這里,由于這兩個模塊,預制體和容器的輸送路徑僅需要略微延伸。這些 模塊被裝配于加工流,而不會產生任何問題。適當地,主滅菌模塊和/或次滅菌模塊均包括處理星輪、以及氣態(tài)或液體介質 的供給和施加部件(A)或者用于將電子束施加于預制體或容器的至少一個電子束發(fā)生 器。處理星輪能夠提供相對長的處理部以有效地處理預制體或容器,同時,處理星輪僅 需要很少的空間。這里,包圍處理星輪的室、例如處理室可以被保持得小,并且至少包 括較高濃度的氣態(tài)介質以排除偶然進入處理星輪的污染物和/或細菌。適當地,處理星輪被配置于處理室,該處理室具有覆蓋供給-排出過渡區(qū)域的 廢氣箱,處理室被連接至通風源。在滅菌處理中,處理室形成有效的遮蔽。如果具有廢 氣箱的處理室優(yōu)選地被配置于例如吹塑模塊或灌裝機所處的清潔室環(huán)境中,則可以進一 步減小雜質或細菌進入處理室的風險。由于灌裝過程的高衛(wèi)生要求以及吹塑模塊自身的 高衛(wèi)生要求,清潔室環(huán)境是適當的。在結構簡單的適合的實施方式中,廢氣箱設置有可調節(jié)的廢氣閥,優(yōu)選為片狀 閥(flap valve),并且廢氣箱優(yōu)選被連接至廢氣排出部,該廢氣排出部以避開處理室的清 潔室環(huán)境的方式通向外部。廢氣閥允許根據加工流精確地、甚至不同選擇地調節(jié)各個廢 氣流,以允許處理室的上游和下游的壓力條件。廢氣排出部將清潔室環(huán)境中的污染物從 內部排出。甚至可以提供從處理室和/或清潔室環(huán)境的廢氣的抽出,以確保在處理室和 清潔室環(huán)境中具體地限定氣流和壓力條件。
在結構簡單的實施方式中,氣態(tài)和/或液體介質的施加部件均包括一個鐘體 (bell body)和中央噴嘴,該鐘體在底側開口并且被配置在處理星輪處,該鐘體包括用于 預制體或容器的外部處理的內部擋板表面,中央噴嘴包括被配置成相對于預制體的或容 器的軸線向側面傾斜的噴嘴口。傾斜配置的噴嘴口將介質橫向引入預制體或容器的內 壁,因此整個內壁被相對快且強烈地撞擊,并且由此得到的氣流也能夠相對自由地從嘴 部出來,在從預制體或容器的嘴部出來后,氣流在鐘體的擋板表面處返回并且從外部到 達嘴部區(qū)域以相應地作用于該嘴部區(qū)域。也可以將噴嘴設計成使得氣流以循環(huán)的方式被 引入預制體或容器。
在適合的實施方式中,鐘體能夠被配置于處理星輪的升降控制裝置處,以使鐘 體相對于預制體或容器的固定部升降,一方面能夠盡可能強烈地進行預制體的滅菌處 理,另一方面不會影響分別在接受和排出預制體或容器的過程中的操作。
以結構簡單的方式,鐘體在次滅菌模塊的處理星輪處與用于容器的固定部對 準,并且鐘體被固定地安裝,使得在定位于固定部的容器的嘴部與鐘體的底側和噴嘴口 之間形成操作間隙。盡管不需要任何升降控制裝置,該操作間隙也允許僅橫向地接受和 排出容器而不與鐘體發(fā)生任何碰撞,這大大簡化了處理星輪的構造和控制。另外,在次 滅菌模塊中,沒有像過去一樣需要可選地具有升降控制器或擋板裝置的吹出星輪,利用 鐘體和噴嘴,能夠可靠地排出殘留物。
然而,為了能夠可靠地控制容器的排出,在另一實施方式中,固定部可以是作 用于容器的支撐環(huán)的下方的夾持器,該固定部在次滅菌處理中確保將容器保持于處理星 輪。作為預防措施,在從處理星輪至隨后的輸送裝置的至少一個排出區(qū)域中,在處理星 輪處的夾持器的運動路徑的下方或上方安裝固定的導出指,該導出指相對于保持在夾持 器中的容器的運動路徑斜向地延伸,并且該導出指在導出動作時能夠抵靠容器的遠離輸 送裝置的一側。導出指允許可靠的容器轉移操作,而不必再次觸碰容器。此外,導出指 也可以被類似地應用于主滅菌模塊中的處理星輪,以避免在預制體的排出過程中觸碰涉 及污染和/或變形風險的輔助部件。
在另一適合的實施方式中,主滅菌模塊中的鐘體在開口底側包括多個窄的支承 桿,或者以開口底側位于可更換地安裝于處理星輪的板上的方式安裝鐘體,該板包括支 承桿,并且在支承桿之間限定通往鐘體的擋板表面的較寬的交叉流動通道。因此,支承 桿不阻礙流體的變向,其中該變向是預制體的外部處理所期望的,而且支承桿允許只要 支承桿停留在嘴部上就在固定部穩(wěn)定地夾持預制體。適當地,支承桿從周緣向噴嘴逐漸 向內退,使得噴嘴口或噴嘴的一部分相對于支承桿向下延伸。通過支承桿的該傾斜配 置,鐘體能夠被足夠深的定位以沿下降方向夾持預制體的嘴部,并且在擋板表面處變向 的流體至少完全地作用于預制體的外側的上部區(qū)域,同時噴嘴通過噴嘴口穿透預制體的 嘴部。
這樣,在處理星輪處,鐘體與預制體的固定協(xié)作,這在從供給輸送裝置的轉移 和處理中是特別適合的,位于處理星輪處的用于預制體的固定部僅必須包括用于預制體 的支撐環(huán)的支撐指,支撐環(huán)被放置在該支撐指上,而鐘體被放置在嘴部上并且將支撐環(huán) 按壓到支撐指上。支撐指被適當地配置在處理星輪的可更換的支撐板處,以使用于更換 至另一預制體的更換時間盡可能得短。在支撐指之間優(yōu)選限定通往下方的間隙區(qū)域的交叉流動通道,從而作用于預制體的至少嘴部區(qū)域的外表面的變向氣流能夠有效地起作 用。用于使鐘體相對于處理星輪處的固定部移動的升降控制裝置適當地包括支撐鐘體的 至少一個引導元件,該引導元件在處理星輪中被可移動地引導,并且可借助于凸輪控制 器經由導輥使該引導元件移動。凸輪控制器以如下方式適當地作用當接受預制體時, 下降的鐘體將預制體固定在固定部上,但是鐘體在預制體被排出之前已經被升高,于是 可選地利用已經提及的導出指的協(xié)作,能夠容易地轉移預制體。由預制體固定彈簧能夠 特別容易地實現預制體的固定,該預制體固定彈簧沿鐘體到預制體的嘴部的下降方向作 用于引導元件或導輥。這是被升降控制部件釋放的特別簡單的固定機構。另外,為了裝置的操作風險最小化,至少能量束發(fā)生器、或者甚至整個模塊被 配置于利用能量束工作的主滅菌模塊和/或次滅菌模塊中的輻射防護曲徑入口(shielded radiation maze)中是合適的。
將參照
本發(fā)明的主題的實施方式。在附圖中圖1示出了用于吹塑成型和灌裝由熱塑性材料制成的預制體的容器的裝置的第 一實施方式的示意性平面圖,圖2示出了裝置的另一實施方式的示意性平面圖,圖3示出了裝置的另一實施方式的示意性平面圖,圖4示出了圖1至圖3的裝置的一部分的示意性平面圖,用于說明滅菌處理中的 通風原理,圖5示出了圖1至圖4的細節(jié)的立體仰視圖,圖6示出了另一細節(jié)的立體圖,圖7示出了另一細節(jié)的示意性截面圖,圖8示出了例如圖5或圖7的示意性平面圖,以及圖9示出了作為圖6的可選方案的另一細節(jié)的立體圖。
具體實施例方式圖1示出了用于吹塑成型或拉伸吹塑成型以及灌裝無菌容器T的裝置V。由熱 塑性材料制成的預制體經由輸送星輪1被供給至加熱裝置H。在經由輸送星輪3使預制體 隨后進入對預制體進行主滅菌操作的主滅菌模塊HS之前,由該輸送星輪1將預制體引入 到加熱裝置H中,并且在加熱裝置H中使預制體具有預定的溫度輪廓。主滅菌模塊HS 被插入到輸送裝置3和吹塑模塊B的另一輸送裝置4之間,在該吹塑模塊B中,吹塑旋轉 體5配置有未示出的吹塑模。如吹塑模塊B的實輪廓線所示,吹塑模塊B,至少吹塑旋 轉體5的區(qū)域,可以處于清潔室環(huán)境內。吹塑成型或拉伸吹塑成型的容器T經由另一輸 送裝置6被轉移至輸送裝置3,并且使該容器T進入次滅菌模塊NS,該次滅菌模塊NS被 插入到輸送裝置3和灌裝機F之間。另一輸送裝置7或者沖洗和/或干燥站可以跟隨該 次滅菌模塊NS,其中無菌容器從該另一輸送裝置7或者沖洗和/或干燥站經由輸送裝置 3被送至灌裝機F。在灌裝機F的出口,另一輸送裝置3使灌裝后的容器進入與排出輸送 裝置8相連的密封機C,在該密封機C中對容器T施加無菌封閉。在主滅菌模塊HS中包括一個處理星輪E1,在次滅菌模塊NS中包括一個處理星輪E2。例如在圖1的實施方 式中,利用在高溫和壓力下施加且由于熱預處理而成為氣態(tài)的介質G進行模塊HS中的主 滅菌處理和模塊NS中的次滅菌處理,其中介質G例如是過氧化氫。作為可選方案,附 圖標記L表示對于次滅菌模塊NS也可以采用例如基于過乙酸的液體介質的次滅菌處理。 裝置V的一部分也可以是連接至供給線路(未示出)的閥配置9,該閥配置9使各自采用 的介質G或L處于壓力下,并且供給管道10從該閥配置9通向模塊HS和NS。
圖2的裝置的實施方式與圖1的裝置的不同之處在于利用均用于產生能量束的 至少一個發(fā)生器11,主滅菌模塊HS和次滅菌模塊NS利用能量束R進行預制體的滅菌處 理和容器的滅菌處理,其中至少一個發(fā)生器11用于產生能量束,該至少一個發(fā)生器11被 適當地配置在屏蔽的輻射阱(shielded radiation trap) Q中。
在圖2的實施方式的未示出的可選方案中,圖1的利用氣態(tài)介質G進行操作的次 滅菌模塊NS可以被設置為次滅菌模塊NS。
圖3的裝置V的實施方式與前面的實施方式的不同之處在于吹塑模塊B和次 滅菌模塊NS之間的輸送部以及通向灌裝機F的輸送部更長。在加熱裝置H和吹塑模塊 B之間,具有處理星輪El的主滅菌模塊利用至少一個發(fā)生器11的能量束R進行操作。 可能地,發(fā)生器11被設置成靠近處理星輪El或者與處理星輪El形成一體。圖3的次滅 菌模塊NS利用液體介質L(利用高壓清水(rinsing))進行操作,為此,次滅菌模塊NS包 括較大的處理星輪E2和用于使容器轉動的轉動裝置12。在密封機C的前面設置分離室 13,在分離室13中已經保持有可能無菌外殼(enclosure)。在次滅菌模塊中進行處理的液 體介質L例如是過乙酸。次滅菌模塊NS例如用作容器清洗機。
在圖1至圖3的裝置V的實施方式中,模塊HS、NS中使用的所有處理星輪El、 E2實際上可以只在轉動平面內操作而沒有升降控制。
在作為可選方案的未示出的實施方式中,圖1的裝置V可以包括圖3的利用液體 介質L的次滅菌模塊NS,來代替利用氣態(tài)介質G的次滅菌模塊NS。另外,可以進行如 下構思在一個處理模塊HS具有兩個或多個處理星輪El,在另一個處理模塊NS中具有 兩個或多個處理星輪E2。
圖4說明了例如用于圖1的裝置的實施方式的主滅菌模塊HS (或者作為可選方 案或者另外,次滅菌模塊NS)的通風系統(tǒng),其中利用例如過氧化氫等氣態(tài)介質G進行消 毒。處理星輪El被配置在處理室13中,該處理室13包圍處理星輪E1,處理室13在從 用于預制體P (或容器T)的輸送裝置3到產生鎖狀效果(lock-like effect)的輸送裝置3或 4的過渡區(qū)域包括廢氣箱15。處理室13被連接至源14,該源14例如是被持續(xù)地導入到 處理室13中的無菌空氣。處理室13位于由虛線示出的清潔室環(huán)境16中,抽氣系統(tǒng)18 可以被連接至該清潔室環(huán)境16。廢氣排出部17避開清潔室環(huán)境16從廢氣箱15被引導至 外部。可選地,可以設置抽氣裝置或者閥部件,從而能夠單獨地控制廢氣流。作為可選 方案,在17’處示出了從廢氣箱15至清潔室環(huán)境16的廢氣管。
清潔室環(huán)境16可以屬于吹塑模塊B并且至少包圍吹塑旋轉體5??梢杂衫绻?風機將過濾后的清潔空氣或者甚至是無菌空氣導入到清潔室環(huán)境16。如果在處理室13中 采用腐蝕性介質,由于例如吹塑旋轉體的部件可能會被損壞,所以該腐蝕性介質不應該 到達清潔室環(huán)境16,因此經由廢氣排出部17的抽氣是推薦的??梢詫U氣抽至外部的廢氣箱15起到這個作用。為了防止處理室13中的交叉流動,可以例如經由可調節(jié)的片狀 閥(未示出)適當地控制廢氣流。例如,借助噴嘴將清潔空氣導入到處理室13中(例如,80Nm3/h)。經由廢氣 排出部17的抽氣被調節(jié)成使得在處理室13中形成真空。由此可以在清潔室環(huán)境16中調 節(jié)所產生的過壓(overpressure)。如上所述,類似的通風原理也可以應用于次滅菌模塊NS,于是,可經由通道到 達的灌裝機F的另一清潔室可以緊跟清潔室環(huán)境16,由于灌裝過程中的衛(wèi)生要求比吹塑 模塊B中的衛(wèi)生要求高,因此,另一清潔室內的壓力較高,例如為20Pa。圖5示出了例如圖1的裝置V的主滅菌模塊HS的處理星輪El的細節(jié)。在能夠 被繞例如豎直軸轉動驅動的處理星輪El中,安裝有環(huán)狀支撐星輪19,該環(huán)狀支撐星輪19 包括沿外周等距離布置的用于施加氣態(tài)介質G的施加部件A。各施加部件A包括大致垂 直布置的噴嘴20,噴嘴20大致經由處理星輪El上方的中央分配器而連接至圖1的閥部 件9的連接管道10。噴嘴20的噴嘴口 21的軸線X基本上被定向在各預制體P的固定部 32的中心,然而其相對于預制體P的軸線Y橫向傾斜。軸線X和軸線Y成非常小的銳 角α。噴嘴20配置在鐘體(bell body) 22中,該鐘體22的開口底側位于支撐板24上, 該支撐板24被固定于至少一個引導元件27,噴嘴20可適當地更換。支撐板24(或者鐘 體22的開口底側)包括沿周向分布的多個窄的支承桿25,在支承桿25之間限定寬的交叉 流動通道50,該通道50通往鐘體22的內部和設置于鐘體內部的擋板表面23。擋板表面 的形狀是例如與圖7對應的凹圓形,以使進入交叉流動通道50的氣流繞噴嘴20的中心改 變方向,并使其再次通過交叉流動通道50向下進入預制體P的嘴部區(qū)域。適當地,支承 桿25的底側26逐步向上傾斜地向內退到鐘體22的內部,使得噴嘴20或噴嘴口 21分別 從支承桿25上突出。當鐘體22的底側的外徑顯著大于預制體P的嘴部37的外徑時,鐘 體22可以以使噴嘴口 21稍微進入嘴部37的方式被放置在嘴部37上,并且交叉流動通道 50的外緣位于嘴部37的平面的下方。引導元件27(適當地是一對引導元件27)在位于支撐星輪19的底側的滑動引導 部28中被可垂直移動地引導,并且引導元件27在下端支承導輥(jockey roller) 29,導輥 29在處理星輪El的相對轉動中與由虛線表示的凸輪控制部30相位(phase-wise)協(xié)作, 從而使鐘體22如圖所示地下降,或者將鐘體調整到從嘴部37升高的位置。適當地,彈 簧31沿鐘體22向嘴部37下降的方向作用于引導元件27或導輥29,以在固定部32中夾 持各預制體P。固定部32例如被設置在可更換地安裝于支撐星輪19的板33中,并且固 定部32被實現為具有多個支撐指34的嘴狀,在多個支撐指之間限定通向位于下方的間隙 區(qū)域的寬闊的交叉流動通道35。利用嘴部37下方的支撐環(huán)36將預制體P停留在支撐指34上,并且由被彈簧31 加壓的鐘體22以使預制體P與鐘體22大致同心的方式夾持預制體P,同時氣態(tài)介質G經 由噴嘴20被吹入預制體中。由于噴嘴口 21相對于預制體P的軸線Y的傾斜位置,氣態(tài)介質G在預制體P 的內壁上劇烈地并且以氣流螺旋行進的方式循環(huán),在氣態(tài)介質G離開嘴部37通往頂部之 前,氣態(tài)介質G在擋板表面23處改變方向,然后作用于預制體P至支撐環(huán)36或者比支撐 環(huán)36更下方的外部區(qū)域。
圖6示出了例如如果采用氣態(tài)介質G(可用熱的清水替換),用于次滅菌模塊的 處理星輪E2的類似結構。這里,鐘體22經由支撐柱40被固定地安裝于板33’,該板 能夠被可更換地安裝于處理星輪E2。支撐板33’處的夾持器39被用作容器T用的固定 部32’。在鐘體22的頂部,配置有用于連接管道10的連接部38。
在圖7中,處理星輪E2被配置于處理室13中,在處理室13中,處理星輪E2繞 所示出的處理星輪的中心軸線轉動。鐘體22以如下方式被安裝于支撐柱40 鐘體22的 開口底側和中央噴嘴20的傾斜的噴嘴口 21與容器T的嘴部37 (具有嘴部37和支撐環(huán)36 的嘴部區(qū)域相對于預制體P的設計不發(fā)生顯著變化)相對,并且二者之間具有僅利用大致 橫向運動(箭頭4 將容器T導入夾持器39或者從夾持器39退出容器T的操作距離42。 圖7示出了由噴嘴20和傾斜的噴嘴口 21引入的氣態(tài)介質G的氣流41的路線。氣流首先 沿著容器T的內壁和底部在一側行進,在氣流離開嘴部37通往頂部之前,氣流在鐘體內 的擋板表面23處改變方向,使得氣流也作用于容器T的嘴部區(qū)域的外部區(qū)域。
為了防止干擾容器T至輸送裝置(例如輸送裝置幻的轉移,可以在轉移區(qū)域中 設置導出指44(也參見圖8),在圖7中,該導出指44在支撐環(huán)36或者夾持器39的上方 作用于容器T,以沿箭頭43的方向轉移容器T。作為可選方案(未示出),導出指可以 被配置在夾持器39的下方。
根據圖8,導出指44被固定地配置于次滅菌模塊NS中,并且位于從處理星輪E2 至輸送裝置3的轉移區(qū)域,使得導出指44作用于容器T的遠離輸送裝置3的背側,并且 將容器T移出夾持器39,例如進入輸送裝置3的夾持器39。導出指44被固定地配置于 支承部45,并且包括相對于處理星輪E2處的容器T的運動路徑斜向配置的導出面46。
導出指44也可以被用于主滅菌模塊HS的處理星輪E1,從而無需與其它部件發(fā) 生有害接觸就能非??煽康剞D移預制體P。導出指44僅是由于安全因素的適當選擇,但 不是必需的。
圖9最后示出了次滅菌模塊NS的處理星輪E2的細節(jié)變化。這里,可借助于升 降控制器47、48、29,、31,將鐘體22調節(jié)成可相對于夾持器39升降。噴嘴20明顯 地從鐘體22突出。升降控制器包括安裝有鐘體22和噴嘴20的臂47、垂直引導元件48 以及用于與凸輪控制器協(xié)作的導輥四’??蛇x地,彈簧31’沿下降方向作用于升降控制 器以將下降后的鐘體22按壓在容器T的嘴部上。引導元件48可以在板33’的滑動引導 部49中移動。圖9的實施方式可以被認為是圖6的替代實施方式,并且也可以連同圖7 的導出指44 一起使用。
權利要求
1.一種用于在容器處理裝置(V)中吹塑成型或拉伸吹塑成型以及灌裝預制體(P)的 無菌容器(T)的方法,所述容器(T)特別是塑料瓶,在該容器處理裝置(V)的吹塑模塊 ⑶中包括吹塑模,其中,所述預制體(P)經由輸送裝置(3,4)從加熱裝置(H)被轉移 至所述吹塑模,并且所述預制體(P)在所述吹塑模中被成型為所述容器(T),所述容器被 從所述吹塑模輸送至灌裝機(F)并且被灌裝,其中對所述預制體(P)和所述容器(T)均 進行滅菌處理,所述方法的特征在于,在所述加熱裝置(H)和所述吹塑模塊(B)之間對 所述預制體(P)進行主滅菌處理,在通向所述灌裝機(F)的輸送路徑中僅對所述容器(T) 進行次滅菌處理。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,利用優(yōu)選是熱處理過的過氧化氫的氣態(tài) 介質(G)進行所述主滅菌處理,利用優(yōu)選是熱處理過的過氧化氫的氣態(tài)介質(G)和/或 優(yōu)選基于過乙酸的液體介質(L)進行所述次滅菌處理。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,利用電子束(R)進行所述主滅菌處理, 利用電子束(R)和/或氣態(tài)介質(G)和/或液體介質(L)進行所述次滅菌處理。
4.根據前述權利要求中的至少一項所述的方法,其特征在于,至少所述主滅菌處理 是在清潔室環(huán)境(16)中進行的,優(yōu)選在清潔室的壓力高于所述輸送裝置的區(qū)域中的壓力 的條件下進行。
5.根據前述權利要求中的至少一項所述的方法,其特征在于,至少所述主滅菌處理 是在處理室(13)中的處理星輪(El)處進行的,所述處理室(13)包圍所述處理星輪(El) 并且向下通向轉移區(qū)域,并且所述處理室(13)優(yōu)選被配置于清潔室環(huán)境(16)中,無菌氣 流被持續(xù)地引入所述處理室(13),并且廢氣優(yōu)選經由包圍所述轉移區(qū)域的廢氣箱(15)被 從所述處理室(13)吹出或抽出。
6.根據前述權利要求中的至少一項所述的方法,其特征在于,空氣以避開所述清潔 室環(huán)境(16)的方式從所述處理室(13)被排出至外部。
7.—種用于吹塑成型或拉伸吹塑成型以及灌裝預制體(P)的無菌容器(T)的容器處 理裝置(V),在該容器處理裝置(V)的吹塑模塊(B)中包括吹塑模,所述容器處理裝置 具有位于所述吹塑模塊的上游的用于所述預制體(P)的加熱裝置(H),其中,所述預制體 (P)能夠被輸送裝置(3,4)轉移至所述吹塑模,并且所述預制體(P)在所述吹塑模中被 成型為容器(T),然后所述容器(T)被輸送至灌裝機(F)并且被灌裝,所述容器處理裝置 還具有用于所述預制體(P)和所述容器(T)的滅菌處理模塊,所述容器處理裝置的特征在 于,在所述加熱裝置(H)和所述吹塑模塊(B)之間設置用于所述預制體(P)的主滅菌模 塊(HS),在所述吹塑模塊(B)和所述灌裝機(F)之間設置用于所述容器(T)的次滅菌模 塊(NS)。
8.根據權利要求7所述的裝置,其特征在于,所述主滅菌模塊(HS)被插入到所述預 制體(P)的位于從所述加熱裝置(H)供給預制體(P)的輸送裝置(3)與將所述預制體轉 移至所述吹塑模塊的輸送裝置(4)之間的輸送路徑中,所述次滅菌模塊(NS)被插入到所 述容器(T)的位于從所述吹塑模塊(B)移出所述容器(T)的輸送裝置(6,3)與將所述容 器轉移到所述灌裝機(F)的輸送裝置(3,7)之間的輸送路徑中。
9.根據權利要求7所述的裝置,其特征在于,所述主滅菌模塊(HS)和所述次滅菌模 塊(NS)均包括至少一個處理星輪(El,E2),并且還包括氣態(tài)介質(G)和/或液體介質(L)的供給和施加部件㈧或者用于將電子束(R)施加于所述預制體(P)或所述容器(T) 的至少一個電子束發(fā)生器(11)。
10.根據權利要求9所述的裝置,其特征在于,所述處理星輪(El,E2)被配置在處 理室(13)中,所述處理室(13)具有覆蓋供給-排出過渡區(qū)域的廢氣箱(15),所述處理室 (13)被連接至通風源(14),所述處理室(13)和所述廢氣箱(15)優(yōu)選被配置于所述吹塑 模塊(B)的清潔室環(huán)境(16)中或所述灌裝機(F)的清潔室環(huán)境(16)中。
11.根據權利要求10所述的裝置,其特征在于,所述廢氣箱(15)包括可調節(jié)的廢氣 閥,所述廢氣閥優(yōu)選為片狀閥,所述廢氣箱(15)優(yōu)選被連接至廢氣排出部(17),所述廢 氣排出部(17)避開所述清潔室環(huán)境(16)通向外部。
12.根據權利要求9所述的裝置,其特征在于,所述氣態(tài)介質(G)和/或所述液體介 質(L)的施加部件(A)均包括一個鐘體(22)和中央噴嘴(20),其中所述鐘體(22)在底 側開口并且被配置于所述處理星輪(El,E2),所述鐘體(22)具有用于所述預制體(P)或 所述容器(T)的外部處理的內部擋板表面(23),所述中央噴嘴(20)具有相對于所述預制 體(P)的或所述容器(T)的軸線向側面傾斜的噴嘴口(21)。
13.根據權利要求12所述的裝置,其特征在于,所述鐘體(22)被配置于所述處理星 輪(El,E2)的升降控制裝置(29’,48,47),以使所述鐘體(22)相對于所述預制體(P) 或所述容器(T)的固定部(39,34)升降。
14.根據權利要求12所述的裝置,其特征在于,所述鐘體(22)在所述次滅菌模塊 (NS)的處理星輪(E2)處與用于所述容器(T)的固定部(39)對準,所述鐘體(22)被固 定地安裝,使得在所述容器(T)的嘴部(37)與所述鐘體(22)的底側之間以及在所述嘴部 (37)與所述噴嘴口(21)之間形成橫向開口的容器操作間隙(42)。
15.根據權利要求13或14所述的裝置,其特征在于,所述固定部(39)是能夠作用在 所述容器(T)的支撐環(huán)(36)的下方的夾持器,在從所述處理星輪(E2)至被分配給所述處 理星輪(E2)的輸送裝置(3)的至少一個轉移區(qū)域,在所述夾持器的運動路徑的下方或上 方安裝有固定的導出指(44),所述導出指相對于配置在所述處理星輪(E2)的夾持器中的 所述容器(T)的運動路徑斜向地延伸,并且所述導出指在導出應用時能夠在所述支撐環(huán) (36)附近抵靠所述容器(T)的遠離所述輸送裝置(3)的一側。
16.根據權利要求12或13所述的裝置,其特征在于,所述主滅菌模塊(HS)中的各鐘 體(22)在開口底側包括多個窄的支承桿(25),或者以所述開口底側位于可更換的安裝板 (24)上的方式安裝所述鐘體(22),所述安裝板包括所述支承桿(25),在所述支承桿(25) 之間,在所述鐘體(22)中限定通往所述擋板表面(23)的多個較寬的交叉流動通道(50), 其中,所述支承桿(25)優(yōu)選在逐漸向內退的同時從周緣向所述噴嘴(20)延伸,并且所述 噴嘴口(21)相對于所述支承桿(25)向下突出。
17.根據權利要求13所述的裝置,其特征在于,位于所述處理星輪(El)處的用于 所述預制體(P)的固定部(32)包括用于從下方與預制體支撐環(huán)(36)接合的多個支撐指 (34),在所述多個支撐指(34)之間限定通向位于所述固定部(32)的下方的間隙區(qū)域的 交叉流動通道(35),所述固定部(32)優(yōu)選被設置于所述處理星輪(El)處的可更換地配 置的支撐板(33)處,并且所述升降控制裝置包括支撐所述鐘體(22)的至少一個引導元件 (27),所述引導元件(27)在所述處理星輪(El)中被可移動地引導,能夠借助于凸輪控制器(30)經由導輥(29)使所述引導元件(27)與所述預制體(P)的軸線大致平行地移動, 其中,當所述預制體(P)的嘴部(37)處于所述預制體支撐環(huán)(36)位于所述支撐指(34) 上的狀態(tài)時,預制體固定彈簧(31)優(yōu)選地沿使所述鐘體(22)及其支承桿(25)下降的方 向作用于所述引導元件(27)或所述導輥(29)。
18.根據權利要求9所述的裝置,其特征在于,至少所述電子束發(fā)生器(11)被配置在 所述主滅菌模塊(HS)和所述次滅菌模塊(NS)的輻射防護曲徑入口(Q)中。
全文摘要
拉伸吹塑成型或吹塑成型和灌裝無菌容器用的方法和裝置。在用于在包括吹塑模塊(B)的容器處理裝置(V)中吹塑成型以及灌裝預制體(P)的無菌容器(T)的方法中,預制體(P)經由輸送裝置(3)被從加熱裝置(H)轉移至吹塑模塊,并且容器(T)被輸送至灌裝機并且被灌裝,其中,對預制體(P)和容器(T)均進行滅菌處理,在加熱裝置(H)和吹塑模塊(B)之間對預制體(P)進行主滅菌處理,并且在通向灌裝機(F)的輸送路徑上僅對容器(T)進行次滅菌處理。適于進行該方法的裝置包括位于加熱裝置(H)和吹塑模塊(B)之間的主滅菌模塊(HS)以及位于吹塑模塊(B)和灌裝機(F)之間的次滅菌模塊(NS)。
文檔編號A61L2/18GK102019686SQ20101028374
公開日2011年4月20日 申請日期2010年9月13日 優(yōu)先權日2009年9月11日
發(fā)明者喬根·索爾納, 克里斯汀·斯多波, 史蒂芬·羅伊特梅爾, 帕特里克·恩格哈德, 弗朗茨·布勞恩, 托馬斯·赫爾里格, 羅蘭德·勞默, 邁克爾·紐鮑爾, 邁克爾·達曼 申請人:克朗斯股份公司
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- 專利名稱:高溫保健陶瓷的制作方法技術領域:本發(fā)明涉及含有麥飯石的耐急熱高溫的陶瓷組合物。原有的高溫陶瓷的熱穩(wěn)定性差,加熱陶瓷時需緩慢升溫,倘若急劇加熱或熱源緊貼陶瓷加熱,如電熱膜加熱,陶瓷會產生炸裂而損壞。近年重新開發(fā)的麥飯石資源,富含人體